在生产硅片的过程中,有一道重要的工序就是硅片抛光,抛光硅片的表面质量与IC器件质量、性能以及成品率有着直接的关系。硅片是通过和碱以及硅酸能产生氧化腐蚀的反应,从而进行抛光的。近日,我司销售部江经理接到了林先生的来电,了解到在硅片抛光过程中会出现大量泡沫,这些泡沫会产生一些不良影响,因此联系到了我司。江经理在了解了基本情况后向林先生推荐了硅片抛光消泡剂,并且寄出了样品试用。
(硅片抛光消泡剂应用场景图)
为什么硅片抛光工艺中会出现大量泡沫?
1. 在高压、高剪切的硅片抛光环境下,受到了环境的影响,导致了许多泡沫的产生;
2. 硅片抛光过程中会使用到抛光浆,这类助剂由高活性脂、溶剂油等组成,具有起泡特性,很容易产生泡沫;
3. 机械设备的原因、空气的混入也是硅片抛光起泡产生的原因之一;
4. 抛光过程中由于水分、油污、灰尘、残留溶剂等杂质的混入,也会导致起泡。
如果不及时消除硅片抛光中的泡沫,将会产生哪些不利影响呢?
1. 泡沫的产生会影响硅片抛光的质量,会干扰到器件的性能,使器件的可靠性和其他性能下降;
2. 泡沫过多也会影响硅片抛光的进度,导致其抛光效率降低,导致硅片抛光的成本增加;
3. 泡沫不及时清除也会残留在硅片表面,导致了硅片表面产生较多的沾污程度和缺陷;
4. 此外,泡沫也会对硅片抛光设备造成影响,泡沫残留在设备表面,影响了抛光设备的利用率。
为了减少硅片抛光起泡带来的众多危害,为什么江经理会选择硅片抛光消泡剂呢?
1. 该消泡剂具有快速的消泡能力和持久的抑泡能力,能够迅速消除硅片抛光中的各类泡沫;
2. 具有良好的化学稳定性能,使用之后不会影响硅片抛光的效果和进度,也不会与其发生任何化学反应;
3. 水溶性良好、分散快,能够快速的与硅片抛光体系相溶,不漂油、不析出。
(硅片抛光消泡剂服务)
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